[发明专利]具有高的脱硼率的复合聚酰胺反渗透膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200710105329.4 申请日: 2007-03-30
公开(公告)号: CN101053787A 公开(公告)日: 2007-10-17
发明(设计)人: 具滋永;洪成杓 申请(专利权)人: 世韩工业株式会社
主分类号: B01D71/56 分类号: B01D71/56;B01D69/12
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 宋莉;贾静环
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种复合聚酰胺反渗透膜。该膜包括微孔载体和布置在该微孔载体上的聚酰胺层,该聚酰胺层包括与其共价键合的碘原子。该膜优选通过包括下列步骤的方法制备:提供微孔载体,在该微孔载体上形成聚酰胺层,及用含有包含至少一个碘原子的化合物的水溶液处理该聚酰胺层。该包含至少一个碘原子的化合物的例子包括分子碘、一溴化碘、一氯化碘和三氯化碘。含碘的化合物可以加入到水溶液并溶于其中,或者可以例如通过向水溶液中加入碘盐和氧化剂在水溶液中原位形成。
搜索关键词: 具有 脱硼率 复合 聚酰胺 反渗透 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种复合聚酰胺反渗透膜,所述复合聚酰胺反渗透膜包括:(a)微孔载体;及(b)布置在所述微孔载体上的聚酰胺层,所述聚酰胺层包括与其共价键合的碘原子。
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