[发明专利]多晶硅的除硼方法无效
申请号: | 200710105965.7 | 申请日: | 2007-06-04 |
公开(公告)号: | CN101054178A | 公开(公告)日: | 2007-10-17 |
发明(设计)人: | 陈朝;庞爱锁 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | C01B33/037 | 分类号: | C01B33/037 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361005福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 多晶硅的除硼方法,涉及一种多晶硅,尤其是涉及一种方法简易、成本低、污染少的去除多晶硅中的硼杂质的方法。提供一种方法简易、成本低、工艺安全和较少污染的多晶硅的除硼方法。步骤为:将多晶硅块粉碎,球磨,筛选得硅粉;将硅粉用有机溶剂去油处理,并去除硅粉中的铁粉;将去油除铁的硅粉放到容器内,再将容器放到高温炉内,进行湿氧氧化,再冷却;将冷却后取出的硅粉放入氢氟酸溶液中腐蚀,去除样品表面的氧化层;用水反复清洗硅粉至流出的水显中性为止,将硅粉去水干燥,得目标产品。经过对硅粉样品的光谱分析表明,可一次将硅粉原料中的硼含量降低1~3倍,与酸洗提纯工艺完全兼容,也可有效地除铝。 | ||
搜索关键词: | 多晶 方法 | ||
【主权项】:
1.多晶硅的除硼方法,其特征在于其具体工艺步骤为:1)将多晶硅块粉碎,球磨,筛选得硅粉;2)将硅粉用有机溶剂去油处理,并去除硅粉中的铁粉;3)将去油除铁的硅粉放到容器内,再将容器放到高温炉内,进行湿氧氧化,再冷却;4)将冷却后取出的硅粉放入氢氟酸溶液中腐蚀,去除样品表面的氧化层;5)用水反复清洗硅粉至流出的水显中性为止,将硅粉去水干燥,得目标产品。
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