[发明专利]正和/或负C片的薄膜设计有效
| 申请号： | 200710105973.1 | 申请日： | 2007-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN101173994A | 公开（公告）日： | 2008-05-07 |
| 发明（设计）人： | 克伦·D.·亨德里克斯;金姆·L.·坦 | 申请（专利权）人： | JDS尤尼弗思公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人： | 郑小粤 |
| 地址： | 美国加利福尼亚州*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 薄膜涂层，例如其包括高、低折射率材料组成的交替层，根据入射光条件可作为正、负C片。特别地，延迟与入射角关系曲线的形状被发现可以由薄膜涂层的相位厚度(即以入射光波长表示的光学厚度，可通过角度、弧度或1/4波长数等形式表示)决定或至少部分决定。这些薄膜涂层可以被选择集成到防反射涂层、薄膜干涉滤光片和/或其他元件中，以改善性能和/或功能。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 设计 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜涂层，包括：一个具有基本周期的多层叠层，其中所述基本周期包括由至少两种折射率有反差的各向同性材料构成的交替层，且所述基本周期在λ0下的等效相位厚度为π；所述基本周期内每一层的物理厚度和折射率被选择以使所述多层叠层在预定波长下充当C片，且使所述基本周期在所述预定波长下的等效相位厚度大于π。
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