[发明专利]狭缝喷嘴的横向喷射均匀度测量装置及方法无效
| 申请号： | 200710107441.1 | 申请日： | 2007-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN101078882A | 公开（公告）日： | 2007-11-28 |
| 发明（设计）人： | 赵康一 | 申请（专利权）人： | K.C.科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 韩明星;刘奕晴 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及测量基板涂敷装置(Substrate Coating Apparatus)的狭缝喷嘴(Slit Nozzle)所喷出的光刻胶的横向喷射均匀度的装置及方法。依据本发明所提供的狭缝喷嘴的横向喷射均匀度测量装置包含具有与所述狭缝喷嘴的喷出口相对的检测面的多个流体压力测量单元，所述流体压力测量单元沿所述狭缝喷嘴的横向并排。 | ||
| 搜索关键词： | 狭缝 喷嘴 横向 喷射 均匀 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
1、一种喷射均匀度测量装置，用于测量狭缝喷嘴的喷射均匀度，其特征在于包含：沿所述狭缝喷嘴的横向并排的多个流体压力测量单元，该流体压力测量单元具有与所述狭缝喷嘴的喷出口相对的流体压力检测面，并测量所述喷出口所喷出的流体的喷射压力；控制单元，该控制单元计量施加在所述流体压力测量单元上的喷射压力而算出均匀度，并进行显示。
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