[发明专利]一种清模剂及该清模剂对镁合金用挤压模具的清洗方法无效
| 申请号： | 200710107901.0 | 申请日： | 2007-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN101054546A | 公开（公告）日： | 2007-10-17 |
| 发明（设计）人： | 王健;丁培道;潘复生;蒋斌;张丁非 | 申请（专利权）人： | 重庆大学 |
| 主分类号： | C11D7/08 | 分类号： | C11D7/08 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 魏忠晖 |
| 地址： | 400044重庆*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种清模剂及该清模剂对镁合金用挤压模具中残存镁合金的清除方法。该清模剂以盐酸为介质，以硫脲和十二烷基苯磺酸钠为缓蚀剂，余量为水；按清模剂的总重量计，HCl浓度为5.0～10.0wt％，硫脲浓度为0.02～0.03wt％，十二烷基苯磺酸钠浓度为0.01～0.02wt％。该清模剂对镁合金用挤压模具的清洗方法是对模具进行浸泡，清模剂的温度为30～40℃，模具中镁合金在挤压方向上长度的平均减小速率为10.2mm/h～40.0mm/h。本发明具有方便、快捷、对模具基本无损害等优点，在对镁合金用挤压模具的清模方面，具有明确和较广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清模剂 镁合金 挤压 模具 清洗 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清模剂，其特征在于：以盐酸为介质，以硫脲和十二烷基苯磺酸钠为缓蚀剂，余量为水；按清模剂的总重量计，HCl浓度为5.0～10.0wt％，硫脲浓度为0.02～0.03wt％，十二烷基苯磺酸钠浓度为0.01～0.02wt％。
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