[发明专利]产生和/或实现补偿位移差的线轮廓的方法、介质和系统无效
| 申请号： | 200710108938.5 | 申请日： | 2007-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN101086832A | 公开（公告）日： | 2007-12-12 |
| 发明（设计）人： | 方裕善;白亚伦;朴斗植 | 申请（专利权）人： | 三星电机株式会社 |
| 主分类号： | G09G5/00 | 分类号： | G09G5/00;H04N5/74;H04N9/31;G09F9/33;G02F1/00 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 韩明星;邱玲 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种产生和/或实现用于补偿光调制器中的位移差的线轮廓的方法、介质和系统。在所述方法中，设计由预定数量的片组成的测试图，该片按照规则灰度等级间隔排列。使用一维光调制器来显示设计的测试图，并使用相机来拍摄显示的测试图，由此获取二维图像。此后，将二维图像划分为多个区域，并对于所述区域的每条水平线计算光强的平均值。最后，使用计算的平均值对各个水平线产生和/或实现线轮廓。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 实现 补偿 位移 轮廓 方法 介质 系统 | ||
【主权项】：
1、一种产生用于光调制的线轮廓的方法，所述方法包括：将拍摄的显示的测试图的二维图像划分为多个区域，计算所述区域的水平线的光强的各个平均值；以及使用计算的平均值来产生所述区域的各个水平线的线轮廓，以抵消用于光调制的光调制器的光栅之间的位移差。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电机株式会社，未经三星电机株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710108938.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
