[发明专利]配置辐射源以同时辐照衬底的方法和系统

摘要

一种配置J个电磁辐射源(J≥2)以同时辐照衬底的方法。每个源具有发射的辐射的波长和角分布的不同函数。所述衬底包括基层和在所述基层上的I个叠层(I≥2)。P_j表示在每个叠层上来自源j的相同指定源的垂直入射能量通量。为了同时暴露所述I个叠层至来自所述J个源的电磁辐射，计算P_j以便作为|W₁-S₁|，|W₂-S₂|，...，|W_I-S_I|的函数的误差E关于P_j (j＝1，2...，J)近似最小化。W_i和S_i分别表示经过叠层i(i＝1，2...，I)透射进入所述衬底的实际和目标能量通量。将所述叠层暴露到来自以所述计算的P_j (j＝1，2...，J)为特征的所述源的辐射。

主权项

1.一种配置辐射源以同时辐照衬底的方法，所述方法包括以下步骤：指定J个电磁辐射源，所述J个源的每个源以其发射的辐射的波长和角分布的不同函数为特征，所述J≥2；指定衬底，所述衬底包括基层和在所述基层上的I个叠层，所述I≥2，其中Pj表示在每个叠层上来自源j的相同的垂直入射能量通量以便Pj与源j对应，j＝1，2...，J；指定目标能量通量Si，其目标为经过每个叠层i透射进入所述衬底以便Si与每个叠层i对应；以及为了同时暴露所述I个叠层至来自所述J个源的电磁辐射，计算每个Pj以便作为|W1-S1|，|W2-S2|，...，|WI-SI|的函数的误差E关于Pj近似最小化，j＝1，2...，J，其中Wi表示经过叠层i透射进入所述衬底的实际能量通量，i＝1，2...，I。