[发明专利]斜坡框架的构筑方法和结构有效

专利信息
申请号: 200710110907.3 申请日: 2007-06-08
公开(公告)号: CN101086163A 公开(公告)日: 2007-12-12
发明(设计)人: 吉野英次;森本泰树 申请(专利权)人: 揖斐电绿色科技株式会社
主分类号: E02D17/20 分类号: E02D17/20
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 代理人: 刘激扬
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种斜坡框架的构筑方法和结构。其提供全面地在绿化初期的施工阶段就可能的具有优异的施工性能,低廉成本的斜坡框架的构筑方法。使用具有多数贯穿孔从表面贯穿到背面的多孔带状体材料。将该多孔带状体铺设在斜坡上。在多孔带状体的扇面喷涂砂基材。
搜索关键词: 斜坡 框架 构筑 方法 结构
【主权项】:
1.一种斜坡框架的构筑方法,该斜坡框架配置在斜坡上,其特征在于,使用具有多数从表面至背面贯穿的贯穿孔并可以弯曲的多孔带状体,上述多孔带状体本身在斜坡侧或是弯曲变形或是折弯变形成为凹侧,形成斜坡框架骨架,将上述斜坡框架骨架在上述斜坡上予以连续配置,以及在上述斜坡框架骨架上供给砂基材。
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