[发明专利]斜坡框架的构筑方法和结构有效
申请号: | 200710110907.3 | 申请日: | 2007-06-08 |
公开(公告)号: | CN101086163A | 公开(公告)日: | 2007-12-12 |
发明(设计)人: | 吉野英次;森本泰树 | 申请(专利权)人: | 揖斐电绿色科技株式会社 |
主分类号: | E02D17/20 | 分类号: | E02D17/20 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种斜坡框架的构筑方法和结构。其提供全面地在绿化初期的施工阶段就可能的具有优异的施工性能,低廉成本的斜坡框架的构筑方法。使用具有多数贯穿孔从表面贯穿到背面的多孔带状体材料。将该多孔带状体铺设在斜坡上。在多孔带状体的扇面喷涂砂基材。 | ||
搜索关键词: | 斜坡 框架 构筑 方法 结构 | ||
【主权项】:
1.一种斜坡框架的构筑方法,该斜坡框架配置在斜坡上,其特征在于,使用具有多数从表面至背面贯穿的贯穿孔并可以弯曲的多孔带状体,上述多孔带状体本身在斜坡侧或是弯曲变形或是折弯变形成为凹侧,形成斜坡框架骨架,将上述斜坡框架骨架在上述斜坡上予以连续配置,以及在上述斜坡框架骨架上供给砂基材。
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