[发明专利]用于减小波前像差的方法和计算机程序产品有效
| 申请号： | 200710112059.X | 申请日： | 2007-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN101101453A | 公开（公告）日： | 2008-01-09 |
| 发明（设计）人： | 维姆·T·特尔;弗罗克·A·斯托弗斯;劳伦斯·C·约里斯玛;塔莫·尤特吉克;约翰斯·W·德克拉克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F17/50 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 齐晓寰 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 用于减小波前像差的方法，用于光刻工艺，所述减小处理基于待印的选定图案和用于曝光的选定照射模式。通过计算投影系统的光学元件的调节、并且将已计算的调节应用于投影系统，来测量和减小光刻设备的投影系统的波前像差。调节的计算是基于有关对辐射敏感层进行曝光期间存在于投影系统的光瞳中的辐射强度空间分布的信息，并且局限于具有相对较高的辐射通量的投影透镜光瞳区域中的像差。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 减小 波前像差 方法 计算机 程序 产品 | ||
【主权项】：
1.一种用于减小穿过光刻设备的投影系统的光波的波前像差的方法，所述光刻设备被构建并且配置用于将衬底上的辐射敏感层曝光于图案图像，所述方法包括：获得波前像差的信息；计算投影系统的至少一个光学元件的至少一个调节，用于减小波前像差；将已计算的至少一个调节应用到投影系统，其中，所述计算包括：获得强度值，所述强度值对应于在对辐射敏感层进行曝光期间存在于投影系统的光瞳中的辐射强度的空间分布；在所获得的强度值的最大值和零之间的范围中选择阈值强度；定义在光瞳内局部强度高于阈值强度的区域；以及把减小处理限制在与光瞳中的所述区域相对应的波前区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710112059.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
