[发明专利]光学薄膜厚度控制方法及装置,绝缘多层薄膜及制造装置

摘要

为提供一种以高精确性控制诸如光学薄膜之类的绝缘多层薄膜的薄膜厚度的方法，可以基于同一方法控制薄膜厚度的光学薄膜厚度控制装置和绝缘多层薄膜制造装置，和使用该控制装置或制造装置制造的绝缘多层薄膜。光学薄膜厚度控制装置包括：薄膜形成设备15，该设备具有可旋转的衬底23和喷溅目标28；光电二极管16，用于检测以预先确定的间隔沿着半径应用到可旋转的衬底的多个单色光束；以及A/D转换器17，其中在衬底23和目标28之间提供可移动的遮光器29，它沿着可旋转的衬底23的半径的方向移动，以关闭衬底23上的薄膜形成。从光电二极管16和A/D转换器17检测出的每一个单色光束中，由最小二乘法计算出倒透射率的二次回归函数。CPU 18和马达驱动器19，它们基于当最新的表面层薄膜达到预先确定的光学薄膜厚度时薄膜增长时间的每一个预测值指示可移动的遮光器的动作，移动该可移动的遮光器29以关闭已经达到预先确定的光学薄膜厚度的薄膜形成区域的薄膜形成。

主权项

1.一种绝缘多层薄膜制造装置，其用于制造的真空室具有薄膜材料源和反应源，每一个源都并排放置以面对可旋转的衬底，该制造装置包括：薄膜沉积速率控制部件，它具有一个开口，用于控制所说的可旋转的衬底上形成的绝缘多层薄膜的薄膜沉积速率；薄膜厚度纠正部件，它具有一个开口，用于纠正在所说的可旋转的衬底上形成的绝缘多层薄膜的薄膜厚度，该薄膜沉积速率控制部件和薄膜厚度纠正部件在所说的可旋转的衬底和所说的薄膜材料源之间提供；光强度测量装置，用于测量沿着所说的可旋转的衬底的半径穿过多个监视点的监视单色光的强度；以及一个控制系统，用于响应当一种或多种波长的每一个监视单色光通量穿过所说的监视点时由所说的光强度测量装置测量的光强度的变化来启动所说的薄膜厚度纠正部件的开口。