[发明专利]阴影绘制方法及装置

摘要

本发明公开了一种阴影绘制方法，包括：对光源进行偏移，得到光源的第一偏移点和第二偏移点；以第一偏移点及第二偏移点为光源位置，获得场景的第一阴影深度贴图及第二阴影深度贴图；计算第一绘制点到第一偏移点的距离值；从第一阴影深度贴图中，获取第一绘制点对应的深度值；若判断得到深度值大于或等于绘制点到第一偏移点的距离值，则计算第一绘制点到第二偏移点的距离值；否则绘制所述绘制点为第一颜色值；从第二阴影深度贴图中，获取绘制点对应的深度值；若判断得到深度值小于第一绘制点到第二偏移点的距离值，则绘制所述绘制点为第二颜色值。本发明还公开了一种阴影绘制装置，实现模拟真实光照场景，绘制阴影区。

主权项

1、一种阴影绘制方法，其特征在于，包括：对光源进行偏移，得到所述光源的第一偏移点和第二偏移点；以所述第一偏移点及所述第二偏移点为光源位置，获得场景的第一阴影深度贴图及第二阴影深度贴图；计算第一绘制点到所述第一偏移点的距离值；从第一阴影深度贴图中，获取所述第一绘制点对应的深度值；若判断得到所述深度值大于或等于所述绘制点到所述第一偏移点的距离值，则计算所述第一绘制点到所述第二偏移点的距离值；否则绘制所述绘制点为第一颜色；从第二阴影深度贴图中，获取所述绘制点对应的深度值；若判断得到所述深度值小于所述第一绘制点到所述第二偏移点的距离值，则绘制所述绘制点为第二颜色；否则绘制所述绘制点为第三颜色。