[发明专利]一种碳化硅钛陶瓷粉体的常压合成方法无效

专利信息
申请号: 200710118230.8 申请日: 2007-07-03
公开(公告)号: CN101113094A 公开(公告)日: 2008-01-30
发明(设计)人: 李世波;向卫华;陈新华;翟洪祥;周洋 申请(专利权)人: 北京交通大学
主分类号: C04B35/56 分类号: C04B35/56;C04B35/64
代理公司: 北京市商泰律师事务所 代理人: 毛燕生
地址: 100044*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种碳化硅钛陶瓷粉体的常压合成方法,以TiH2粉、Si粉和TiC粉为原料,Al为反应助剂,按Ti∶Si∶TiC∶Al=1∶1∶(1.8~2)∶(0.15~0.25)的摩尔比配料,干混10小时后,在30~50MPa压力下压制成块,将压块置于高温炉中,真空气氛下,以15~50℃/min的升温速率将炉温升至1300~1550℃,保温时间为5~15min,制得高纯度低成本Ti3SiC2粉体。该方法具有:合成Ti3SiC2粉体时间短,纯度高,成本低,所用设备简单,工艺参数稳定,适用于规模化生产。
搜索关键词: 一种 碳化硅 陶瓷 常压 合成 方法
【主权项】:
1.一种碳化硅钛陶瓷粉体的常压合成方法,其特征在于含有以下步骤;:(1)以TiH2粉、Si粉和TiC粉为原料,Al为反应助剂,按Ti∶Si∶TiC∶Al=1∶1∶1.8~2∶0.15~0.25的摩尔比配料;(2)将上述配料和玛瑙球放入球磨罐中,在球磨机上干混10小时;(3)将上述混合均匀的配料在30~50MPa压力下压制成块;(4)将上述压块置于高温炉中,在真空气氛下,以15~50℃/min的升温速率将炉温升至1300~1550℃,保温时间为5~15min,制得高纯度低成本Ti3SiC2粉体。
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