[发明专利]一种测量半导体掺杂浓度的方法有效
申请号: | 200710120481.X | 申请日: | 2007-08-20 |
公开(公告)号: | CN101159243A | 公开(公告)日: | 2008-04-09 |
发明(设计)人: | 李斌成;刘显明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人: | 贾玉忠;卢纪 |
地址: | 61020*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种测量半导体掺杂浓度的方法,其特征在于:在同一测试系统中集成了光载流子辐射测量技术和自由载流子吸收测量技术,同时获得自由载流子的复合辐射信号与吸收信号;通过改变激发光的调制频率,得到频域的载流子辐射信号和吸收信号;通过改变激发光与探测光之间的间距,得到空间域的载流子辐射信号和吸收信号;通过与定标样品的载流子辐射信号和吸收信号数据比较,得到被测样品的掺杂浓度。本发明基于光载流子辐射测量技术和自由载流子吸收技术,由于集成了两路独立信号各自在频域和空间域上的信息,大大提高了掺杂浓度的测量精度。 | ||
搜索关键词: | 一种 测量 半导体 掺杂 浓度 方法 | ||
【主权项】:
1.一种测量半导体掺杂浓度的方法,其特征在于如下步骤:(1)将强度调制的激发光和连续的探测光同时照射到掺杂半导体上同一或相邻位置,半导体因吸收激发光能量产生自由载流子,载流子复合发光产生辐射信号SPCR,透射的探测光也因自由载流子的吸收而形成自由载流子吸收信号SFCA,通过锁相放大器可同时测得两信号的振幅值和相位值;(2)固定激发光与探测光之间间距Δd不变,改变激发光的调制频率f,重复上述过程,得到Δd不变时每一频率所对应的输出信号,包括复合辐射信号SPCR的一次谐波振幅值APCR(f)和相位值φPCR(f)以及自由载流子吸收信号SFCA的一次谐波振幅值AFCA(f)和相位值φFCA(f);(3)固定激发光的调制频率f不变,改变激发光与探测光之间的间距Δd,重复上述过程,得到某一频率时不同间距对应的输出信号,包括复合辐射信号SPCR的一次谐波振幅值APCR(Δd)和相位值φPCR(Δd)以及自由载流子吸收信号SFCA的一次谐波振幅值AFCA(Δd)和相位值φFCA(Δd);(4)将步骤(2)和步骤(3)测得的数据与定标样品数据比较,得到待测样品的掺杂浓度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所,未经中国科学院光电技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710120481.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:自动分页碎纸机
- 下一篇:水过滤净化装置及其方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造