[发明专利]倒装双结铟镓氮太阳能电池结构无效
申请号: | 200710120608.8 | 申请日: | 2007-08-22 |
公开(公告)号: | CN101373798A | 公开(公告)日: | 2009-02-25 |
发明(设计)人: | 王晓亮;杨翠柏;肖红领;胡国新;冉学军;王翠梅;张小宾;李晋闽 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L31/06 | 分类号: | H01L31/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种倒装双结铟镓氮太阳能电池结构,包括:一衬底;一氮化镓成核层制作在衬底的上面;一非有意掺杂氮化镓缓冲层制作在氮化镓成核层的上面;一n型掺杂InaGa1-aN层制作在非有意掺杂氮化镓缓冲层的上面;一p型掺杂InaGa1-aN层制作在n型掺杂InaGa1-aN层的上面;一p型重掺杂InbGa1-bN层制作在p型掺杂InaGa1-aN层的上面;一n型重掺杂InbGa1-bN层制作在p型重掺杂InbGa1-bN层的上面;一n型掺杂IncGa1-cN层制作在n型重掺杂InbGa1-bN层的上面;一p型掺杂IncGa1-cN层制作在n型掺杂IncGa1-cN层的上面。 | ||
搜索关键词: | 倒装 双结铟镓氮 太阳能电池 结构 | ||
【主权项】:
1.一种倒装双结铟镓氮太阳能电池结构,其特征在于,其中包括:一衬底;一氮化镓成核层,该氮化镓成核层制作在衬底的上面,该成核层可以增加衬底表面的成核密度;一非有意掺杂氮化镓缓冲层,该非有意掺杂氮化镓缓冲层制作在氮化镓成核层的上面,该缓冲层可以减少外延层的缺陷密度,提高晶体质量;一n型掺杂InaGa1-zN层,该n型掺杂InaGa1-aN层制作在非有意掺杂氮化镓缓冲层的上面,该n型掺杂层是底层InaGa1-aN电池的一部分;一p型掺杂InaGa1-aN层,该p型掺杂InaGa1-aN层制作在n型掺杂InaGa1-aN层的上面,该p型掺杂层是底层InaGa1-aN电池的一部分;一p型重掺杂InbGa1-bN层,该p型重掺杂InbGa1-bN层制作在p型掺杂InaGa1-aN层的上面,该p型重掺杂层是隧道结的一部分;一n型重掺杂InbGa1-bN层,该n型重掺杂InbGa1-bN层制作在p型重掺杂InbGa1-bN层的上面,该n型重掺杂层是隧道结的一部分;一n型掺杂IncGa1-cN层,该n型掺杂IncGa1-cN层制作在n型重掺杂InbGa1-bN层的上面,该n型掺杂层是顶层IncGa1-cN电池的一部分;一p型掺杂IncGa1-cN层,该p型掺杂IncGa1-cN层制作在n型掺杂IncGa1-cN层的上面,该p型掺杂层是顶层IncGa1-cN电池的一部分。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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