[发明专利]倒装双结铟镓氮太阳能电池结构无效

专利信息
申请号: 200710120608.8 申请日: 2007-08-22
公开(公告)号: CN101373798A 公开(公告)日: 2009-02-25
发明(设计)人: 王晓亮;杨翠柏;肖红领;胡国新;冉学军;王翠梅;张小宾;李晋闽 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L31/06 分类号: H01L31/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 100083北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种倒装双结铟镓氮太阳能电池结构,包括:一衬底;一氮化镓成核层制作在衬底的上面;一非有意掺杂氮化镓缓冲层制作在氮化镓成核层的上面;一n型掺杂InaGa1-aN层制作在非有意掺杂氮化镓缓冲层的上面;一p型掺杂InaGa1-aN层制作在n型掺杂InaGa1-aN层的上面;一p型重掺杂InbGa1-bN层制作在p型掺杂InaGa1-aN层的上面;一n型重掺杂InbGa1-bN层制作在p型重掺杂InbGa1-bN层的上面;一n型掺杂IncGa1-cN层制作在n型重掺杂InbGa1-bN层的上面;一p型掺杂IncGa1-cN层制作在n型掺杂IncGa1-cN层的上面。
搜索关键词: 倒装 双结铟镓氮 太阳能电池 结构
【主权项】:
1.一种倒装双结铟镓氮太阳能电池结构,其特征在于,其中包括:一衬底;一氮化镓成核层,该氮化镓成核层制作在衬底的上面,该成核层可以增加衬底表面的成核密度;一非有意掺杂氮化镓缓冲层,该非有意掺杂氮化镓缓冲层制作在氮化镓成核层的上面,该缓冲层可以减少外延层的缺陷密度,提高晶体质量;一n型掺杂InaGa1-zN层,该n型掺杂InaGa1-aN层制作在非有意掺杂氮化镓缓冲层的上面,该n型掺杂层是底层InaGa1-aN电池的一部分;一p型掺杂InaGa1-aN层,该p型掺杂InaGa1-aN层制作在n型掺杂InaGa1-aN层的上面,该p型掺杂层是底层InaGa1-aN电池的一部分;一p型重掺杂InbGa1-bN层,该p型重掺杂InbGa1-bN层制作在p型掺杂InaGa1-aN层的上面,该p型重掺杂层是隧道结的一部分;一n型重掺杂InbGa1-bN层,该n型重掺杂InbGa1-bN层制作在p型重掺杂InbGa1-bN层的上面,该n型重掺杂层是隧道结的一部分;一n型掺杂IncGa1-cN层,该n型掺杂IncGa1-cN层制作在n型重掺杂InbGa1-bN层的上面,该n型掺杂层是顶层IncGa1-cN电池的一部分;一p型掺杂IncGa1-cN层,该p型掺杂IncGa1-cN层制作在n型掺杂IncGa1-cN层的上面,该p型掺杂层是顶层IncGa1-cN电池的一部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710120608.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top