[发明专利]一种具有反射式光学系统的亚波长光刻方法和系统无效
| 申请号： | 200710120710.8 | 申请日： | 2007-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN101126904A | 公开（公告）日： | 2008-02-20 |
| 发明（设计）人： | 张春梅;邢薇;唐小萍;严佩英;胡松;王淑蓉;赵立新;严伟 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 贾玉忠;卢纪 |
| 地址： | 61020*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有反射式光学系统的亚波长光刻方法和系统，利用反射镜阵列汇聚光束，运用光束相干叠加技术，通过调整多相干光的参数(振幅、相位、偏振等)实现亚波长的光学聚焦，并利用聚焦光斑进行光刻。系统包括激光器、激光能量调节装置、光分束装置、反射式光学系统、图形发生器或掩模、涂有光敏材料的基底、三维工件台等。本发明克服了当前光刻技术存在的低分辨率、高成本等不足，可用于微钠结构制作、MEMS器件制造、半导体芯片制造等领域，另外对光学显微测量、半导体测量、荧光显微、光学捕获等领域也有着重要的意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 反射 光学系统 波长 光刻 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.具有反射式光学系统的亚波长光刻方法，其特征在于步骤如下：(1)将光源发出的光束分为两路；(2)在步骤(1)所述的两光路中分别放置M、N个分光镜，形成共计M+N束光，在每一束光的光路上放置有可调反射镜，该可调反射镜装有调节装置，通过调整可调反射镜使所有M+N束光实现会聚，调整各束光的参数使M+N束光在会聚处发生干涉；(3)在M+N束光的会聚处，放置基底，实现曝光；(4)曝光之后，通过后续处理得到需要的光刻图形。
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