[发明专利]一种光控法控制玻璃刻蚀深度的方法无效
申请号: | 200710121464.8 | 申请日: | 2007-09-06 |
公开(公告)号: | CN101154036A | 公开(公告)日: | 2008-04-02 |
发明(设计)人: | 李立东;李姝静 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/20;G03F7/26;C03C15/00 |
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地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种光控法控制玻璃刻蚀深度的方法,属于无机化学领域,特别涉及一种能够用光控的方法准确控制玻璃刻蚀深度的刻蚀方法。其特征在于用光敏剂、感光生酸剂,增稠剂,刻蚀助剂组成感光刻蚀剂,感光刻蚀剂中各成分的质量百分比为:光敏剂:<2%,感光生酸剂:5%-30%,增稠剂:1%-10%,刻蚀助剂:1%-10%,余量为水。制作方法是将掩膜材料平整的覆盖于干燥清洁的玻璃板上,确定所需刻蚀的图案,并去除图案上的掩膜材料,露出所需刻蚀的部分;将感光刻蚀剂覆盖于玻璃板需刻蚀的图案上,进行光照,生成HF酸对玻璃进行腐蚀;待20-40min后,取出玻璃板,将其上的掩膜材料剥离即制成所需的玻璃。本方法操作简单、刻蚀速度可控,适用于各类玻璃的表面刻蚀,尤其是需要控制玻璃刻蚀深度的时候。 | ||
搜索关键词: | 一种 光控 控制 玻璃 刻蚀 深度 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光控法控制玻璃刻蚀深度的方法,其特征在于用光敏剂、感光生酸剂,增稠剂,刻蚀助剂组成感光刻蚀剂,感光刻蚀剂中各成分的质量百分比为:光敏剂:<2%,感光生酸剂:5%-30%,增稠剂:1%-10%,刻蚀助剂:1%-10%,余量为水;光敏剂为能与碘鎓盐匹配进行光敏反应的各类染料,包括荧光素类染料,香豆素类染料,方酸类染料;所用感光生酸剂为水溶性良好的碘鎓盐类化合物;增稠剂为聚乙烯醇或聚丙烯酰胺或聚丙烯酸或羟甲基纤维素或羟乙基纤维素或聚乙二醇或明胶类水溶性高分子;所用的刻蚀助剂为NH4F、NaF。
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