[发明专利]采用低压等离子喷涂制备Al-Si-Cr涂层的方法无效
申请号: | 200710122223.5 | 申请日: | 2007-09-24 |
公开(公告)号: | CN101126144A | 公开(公告)日: | 2008-02-20 |
发明(设计)人: | 周春根;姚登樽;蔡锐;张虎;徐惠彬 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | C23C4/06 | 分类号: | C23C4/06;C23C4/02 |
代理公司: | 北京永创新实专利事务所 | 代理人: | 李有浩 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种采用低压等离子喷涂制备Al-Si-Cr涂层的方法,通过采用低压30~40×103pa等离子喷涂工艺在Nb-24Ti-16Si-6Al-6Cr-2Hf基体上制备了Al-Si-Cr涂层,使得基体与涂层之间形成5~15μm的互扩散层;Al-Si-Cr涂层在高温1000~1250℃氧化时能够形成连续的致密的Al2O3和SiO2混合氧化物层,从而阻止涂层和基体的进一步被氧化,改善了Nb-24Ti-16Si-6Al-6Cr-2Hf基体的抗高温氧化性能,制备有涂层的基体表面单位面积增重为5.6~16.8mg/cm2。所述Al-Si-Cr涂层由Al-Si-Cr混合层和互扩散层组成,其中Al-Si-Cr混合层包含Cr(Si,Al)2、Al、Si三相;互扩散层含有Nb、Ti、Si、Al和Cr元素。 | ||
搜索关键词: | 采用 低压 等离子 喷涂 制备 al si cr 涂层 方法 | ||
【主权项】:
1.一种Al-Si-Cr涂层,所述Al-Si-Cr涂层制备在Nb-24Ti-16Si-6Al-6Cr-2Hf基体上,其特征在于:所述Al-Si-Cr涂层由Al-Si-Cr混合层和互扩散层组成,互扩散层在Al-Si-Cr混合层与Nb-24Ti-16Si-6Al-6Cr-2Hf基体之间,互扩散层厚度为5~15μm。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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