[发明专利]含氧杂环丁烷的化合物、光致抗蚀剂组合物、制备图案的方法、以及喷墨打印头有效

专利信息
申请号: 200710126352.1 申请日: 2007-06-29
公开(公告)号: CN101190903A 公开(公告)日: 2008-06-04
发明(设计)人: 金奎植;金镇伯;河龙雄;朴炳夏;朴志英;金秀玟 申请(专利权)人: 三星电子株式会社;韩国科学技术院
主分类号: C07D305/06 分类号: C07D305/06;G03F7/004;G03F7/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 吴培善
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明披露了含氧杂环丁烷的化合物,包括该化合物的光致抗蚀剂组合物,使用该光致抗蚀剂组合物制备图案的方法,以及喷墨打印头,该喷墨打印头包括所述含氧杂环丁烷的化合物的聚合产物。
搜索关键词: 含氧杂环 丁烷 化合物 光致抗蚀剂 组合 制备 图案 方法 以及 喷墨 打印头
【主权项】:
1.由式1、式2中至少一种表示的含氧杂环丁烷的化合物,以及它们的混合物:式1                                                  式2其中:Q1、Q2、Q3、Q4、Q5、Q6、Q7和Q8各自独立地为以下基团之一:氢原子、羟基、羧基、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C2-C30链烯基、取代或未取代的C2-C30炔基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、取代或未取代的C4-C30脂族烃环、取代或未取代的C6-C30芳基、取代或未取代的C2-C30杂芳基、取代或未取代的C6-C30芳氧基、取代或未取代的C6-C30酰基、以及取代或未取代的含醚键的单价基团,Q1、Q2、Q3、Q4、Q5、Q6、Q7和Q8彼此相同或不同,在Q1和Q2中的至少一种中的至少一个氢原子,以及在Q3、Q4、Q5、Q6、Q7和Q8中的至少一种中的至少一个氢原子被氧杂环丁基取代,a为1、2、3或4,b为1、2、3、4或5,c和e各自独立地为1、2或3,d为1或2,f、g和h各自独立地为1、2、3或4,L1、L2和L3各自独立地为以下基团之一:取代或未取代的C1-C30亚烷基、取代或未取代的C2-C30亚链烯基、取代或未取代的C2-C30亚炔基、取代或未取代的C6-C30亚芳基、取代或未取代的C3-C30杂亚芳基、以及取代或未取代的含醚键的二价基团,以及n为0或1~10的整数。
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