[发明专利]非易失性存储器单元阵列有效
申请号: | 200710126657.2 | 申请日: | 2007-05-15 |
公开(公告)号: | CN101075618A | 公开(公告)日: | 2007-11-21 |
发明(设计)人: | W·冯埃姆登;G·坦佩尔 | 申请(专利权)人: | 奇梦达股份公司 |
主分类号: | H01L27/112 | 分类号: | H01L27/112;H01L27/115;H01L23/522;H01L21/8246;H01L21/8247;H01L21/768 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 余刚;李丙林 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种非易失性存储器单元阵列及其制造方法。非易失性存储器单元阵列包括沿第一方向平行延伸的第一字线及沿第二方向平行延伸的第二字线。所述第一字线提供沿所述第二方向布置的第一部分非易失性存储器单元的栅电极,而所述第二字线提供沿所述第一方向布置的第二部分非易失性存储器单元的栅电极。 | ||
搜索关键词: | 非易失性存储器 单元 阵列 | ||
【主权项】:
1.一种非易失性存储器单元阵列,包括:沿着沿第一方向平行延伸的第一线和沿第二方向平行延伸的第二线设置的包括源/漏区的多个存储器单元晶体管;沿所述第一方向平行延伸的多个第一字线,所述第一字线将栅电极提供给沿所述第二方向延伸的所述多个存储器单元晶体管;沿所述第二方向平行延伸的多个第二字线,所述第二字线将栅电极提供给沿所述第一方向延伸的所述多个存储器单元晶体管,在交叉点处所述第二字线形成在所述第一字线之上;在所述交叉点处夹在所述第一和第二字线之间的电介质材料;和沿第三方向平行延伸的多个位线,所述多个位线与所述源/漏区电接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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