[发明专利]非易失性存储器单元阵列有效

专利信息
申请号: 200710126657.2 申请日: 2007-05-15
公开(公告)号: CN101075618A 公开(公告)日: 2007-11-21
发明(设计)人: W·冯埃姆登;G·坦佩尔 申请(专利权)人: 奇梦达股份公司
主分类号: H01L27/112 分类号: H01L27/112;H01L27/115;H01L23/522;H01L21/8246;H01L21/8247;H01L21/768
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 余刚;李丙林
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种非易失性存储器单元阵列及其制造方法。非易失性存储器单元阵列包括沿第一方向平行延伸的第一字线及沿第二方向平行延伸的第二字线。所述第一字线提供沿所述第二方向布置的第一部分非易失性存储器单元的栅电极,而所述第二字线提供沿所述第一方向布置的第二部分非易失性存储器单元的栅电极。
搜索关键词: 非易失性存储器 单元 阵列
【主权项】:
1.一种非易失性存储器单元阵列,包括:沿着沿第一方向平行延伸的第一线和沿第二方向平行延伸的第二线设置的包括源/漏区的多个存储器单元晶体管;沿所述第一方向平行延伸的多个第一字线,所述第一字线将栅电极提供给沿所述第二方向延伸的所述多个存储器单元晶体管;沿所述第二方向平行延伸的多个第二字线,所述第二字线将栅电极提供给沿所述第一方向延伸的所述多个存储器单元晶体管,在交叉点处所述第二字线形成在所述第一字线之上;在所述交叉点处夹在所述第一和第二字线之间的电介质材料;和沿第三方向平行延伸的多个位线,所述多个位线与所述源/漏区电接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奇梦达股份公司,未经奇梦达股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710126657.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top