[发明专利]半导体结构及半导体芯片有效

专利信息
申请号: 200710127095.3 申请日: 2007-07-04
公开(公告)号: CN101232018A 公开(公告)日: 2008-07-30
发明(设计)人: 冯家馨 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 陈晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种半导体结构及半导体芯片,此半导体结构包括:对称式的金属氧化物半导体晶体管,其包括第一非对称式的金属氧化物半导体晶体管,其包括第一栅极电极以及邻接于该第一栅极电极的第一源极与第一漏极;以及第二非对称式的金属氧化物半导体晶体管,其包括第二栅极电极以及邻接于该第二栅极电极的第二源极与第二漏极,其中该第一栅极电极连接于该第二栅极电极,并且其中只有该第一源极以及该第一漏极其中之一连接于对应的该第二源极及该第二漏极其中之一。本发明仅需形成非对称式的金属氧化物半导体场效应晶体管,因此可降低集成电路的制造成本,并提升集成电路的整体性能,且明显降低用于建模的复杂度以及成本。
搜索关键词: 半导体 结构 芯片
【主权项】:
1.一种半导体结构,包括:对称式的金属氧化物半导体晶体管,包括:第一非对称式的金属氧化物半导体晶体管,其包括第一栅极电极以及邻接于该第一栅极电极的第一源极与第一漏极;以及第二非对称式的金属氧化物半导体晶体管,其包括第二栅极电极以及邻接于该第二栅极电极的第二源极与第二漏极,其中该第一栅极电极连接于该第二栅极电极,并且其中只有该第一源极以及该第一漏极其中之一连接于对应的该第二源极及该第二漏极其中之一。
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