[发明专利]应用于透明导电玻璃基板的非平衡磁控镀射法

摘要

本发明提供了一种应用于透明导电玻璃基板的非平衡磁控镀射法，将该玻璃基板放入真空环境并加热，该镀源外围设有高电流电磁场，该高电流电磁场迭设于溅射靶极上，形成非平衡磁场并产生辉光放电区，产生具高动能氧化物粒子，又，该氧化物粒子沉积披覆于玻璃基板上；由具氧化物粒子的玻璃基板浸润在辉光放电区中，使氧化物粒子在玻璃基板形成结晶，且由该非平衡磁场，其带电粒子具有比一般磁场更高动能，进而可实现增加玻璃基板成膜速度及易于形成排列组合整齐的微结晶结构。

主权项

1、一种应用于透明导电玻璃基板的非平衡磁控镀射法，该玻璃基板放入真空环境并加热，该玻璃基板以该镀源的非平衡磁场，产生具高动能氧化物粒子，该镀源外围设有高电流电磁场，该高电流电磁场迭设于溅射靶极上，形成非平衡磁场并产生辉光放电区，该氧化物粒子沉积披覆于玻璃基板上，该非平衡磁场在玻璃基板表面附近产生大量具高温的带电粒子，该带电粒子直接浸润该披覆有氧化物的玻璃基板，产生排列组合整齐的结晶。