[发明专利]电照相感光体、采用该感光体的成像装置以及处理盒有效
申请号: | 200710128835.5 | 申请日: | 2007-03-12 |
公开(公告)号: | CN101071280A | 公开(公告)日: | 2007-11-14 |
发明(设计)人: | 利根哲也;铃木康夫;铃木哲郎;纸英利;藤原由贵男;稻叶佳范 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G03G5/06 | 分类号: | G03G5/06;G03G15/00;G03G21/18 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 宋莉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种包括导电基底、覆盖导电基底的光敏层和覆盖光敏层的最外层的感光体,其中最外层通过不具有电荷传输结构的可自由基聚合的化合物、包括具有特定化学式的化合物,与具有电荷传输结构的可自由基聚合的化合物之间的反应,同时将热、光或电离辐射施加给反应而形成,并且其中光敏层和最外层中至少之一包括至少一种具有烷氨基的芳甲烷化合物或具有特定化学式的化合物。 | ||
搜索关键词: | 照相 感光 采用 成像 装置 以及 处理 | ||
【主权项】:
1.一种电照相感光体,包括:导电基底;覆盖导电基底的光敏层;以及覆盖光敏层的最外层,其中所述最外层通过包括以下化学式(1)所代表的化合物的不具有电荷传输结构的可自由基聚合的化合物,与具有电荷传输结构的可自由基聚合的化合物之间的反应,同时向反应中施加选自热、光和电离辐射中的至少一者而形成,以及其中光敏层和最外层中至少之一包含至少一种选自下列的化合物:(A)具有烷氨基的芳甲烷化合物,(B)以下化学式(2)所代表的化合物,(C)以下化学式(3)所代表的化合物,以及(D)以下化学式(4)所代表的化合物:
其中R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地代表氢原子或如下化学式所代表的基团:
其中R7代表单键、亚烷基、亚烷基醚基、聚氧化亚烷基、被羟基取代的亚烷基醚基、被(甲基)丙烯酰氧基取代的亚烷基醚基、氧化亚烷基羰基基团或者聚(氧化亚烷基羰基)基团;并且R8代表氢原子或甲基,其中R1、R2、R3、R4、R5和R6中的四个或更多个不同时代表氢原子:![]()
其中R9和R10各自独立地代表取代或未取代的芳基或取代或未取代的烷基,其中R9和R10任选的参与键连接以形成含有氮原子的杂环基团;Ar1和Ar2各自独立地代表取代或未取代的芳基基团;k和m各自独立地代表从0至3的整数,其中k和m不同时代表0;并且n代表从1至3的整数:
其中R11和R12各自独立地代表取代或未取代的烷基基团或取代或未取代的芳基基团,其中R11和R12中至少一个为取代或未取代的芳基基团,其中R11和R12任选的参与键连接以形成含有氮原子的取代或未取代的杂环基团;并且Ar3代表取代或未取代的芳基基团。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710128835.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。