[发明专利]一种二维正方胶体晶体的制备方法无效

专利信息
申请号: 200710133881.4 申请日: 2007-10-24
公开(公告)号: CN101143709A 公开(公告)日: 2008-03-19
发明(设计)人: 王振林;孙洁;詹鹏;祝名伟 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: B82B3/00 分类号: B82B3/00
代理公司: 南京苏高专利事务所 代理人: 柏尚春
地址: 210093*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种制备二维正方胶体晶体的方法,属于纳米/微米微结构材料制备技术。本发明结合了毛细吸引力、自组装技术,以及基于一维沟槽衬底的胶体外延法。首先在两块衬底之间夹上间隔物做成微通道,其中一块衬底表面有一维周期性沟槽,胶体微球直径与衬底沟槽周期之比约为,其误差小于5%。然后在微通道中注入适量的胶体微球悬浊液,干燥界面取向与衬底沟槽之间的夹角为45°,夹角容许误差范围为±3°,待其干燥。随着液体的蒸发,微球在干燥界面处发生自组织,从而得到二维正方结构的胶体晶体。本发明制得的胶体晶体具有结构新颖、面积大、有序度高等优点。
搜索关键词: 一种 二维 正方 胶体 晶体 制备 方法
【主权项】:
1.一种二维正方胶体晶体的制备方法,其特征在于该方法包括以下步骤:(1)在两块衬底之间夹上两根条状间隔物做成一个微通道,其中一块衬底表面具有一维周期性起伏的沟槽;(2)将单分散的胶体微球的悬浊液注入微通道内,形成平行于间隔物的干燥界面;(3)将微通道平放在一个湿度恒定的空间中,在室温下随着液体的蒸发,胶体微球则在干燥界面处发生自组织;(4)液体完全干燥后,拆开微通道,即在图案衬底上得到二维正方胶体晶体。
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