[发明专利]光学元件的制造方法无效
| 申请号： | 200710136167.0 | 申请日： | 2007-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN101153927A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | 小谷恭子 | 申请（专利权）人： | 冲电气工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00;G03F1/14;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种简易的光学元件的制造方法。作为解决手段，衍射光学元件的制造方法包括执行如下处理的工序：准备基板；对基板进行包括使用光掩模进行的曝光处理的构图，形成抗蚀剂图形，所述光掩模是用于形成抗蚀剂图形的曝光用的光掩模，其具有掩模基板、以及与该掩模基板紧密结合且以矩阵方式排列而成的多个掩模单元，该掩模单元具有光透过区域和利用设置于掩模基板上的遮光膜形成的遮光区域中的任意一方或双方，掩模单元的透过光的光强是归一化光强，且多个掩模单元的透过光的光强是不同的；以及将抗蚀剂图形用作蚀刻掩模，进行构图。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括执行如下处理的工序：准备基板；对所述基板进行包括使用光掩模进行的曝光处理的构图，形成抗蚀剂图形，其中，所述光掩模是用于形成抗蚀剂图形的曝光用的光掩模，且所述光掩模具有掩模基板、以及与该掩模基板紧密结合且以矩阵方式排列而成的多个掩模单元，所述掩模单元具有光透过区域和利用设置于所述掩模基板上的遮光膜形成的遮光区域中的任意一方或双方，所述掩模单元的透过光的光强是归一化光强，且多个所述掩模单元的透过光的光强是不同的；以及将所述抗蚀剂图形用作蚀刻掩模，进行构图。
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