[发明专利]具有平面电机驱动支架的光刻设备无效
| 申请号： | 200710136721.5 | 申请日： | 2007-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN101114129A | 公开（公告）日： | 2008-01-30 |
| 发明（设计）人： | 汉斯·巴特勒;弗朗西斯库斯·阿德里安那斯·赫拉尔杜;斯·克拉森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱进桂 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备，包括：照射系统，用于调节辐射束；构图支架，用于支撑构图装置，所述构图装置对辐射束进行构图；衬底支架，用于支撑衬底；投影系统，用于把已构图的辐射束投影到所述衬底上；附加支架；以及柔性线路组件，用于对电流、信号和流体中至少一项进行传送。所述线路组件的第一部分在底座与所述附加支架之间延伸，并且第二部分在所述附加支架与所述构图支架或所述衬底支架之一之间延伸。第一电机组件产生沿至少一个方向的力，并且所述第一电机组件与所述构图支架和所述衬底支架之一相连。第二电机组件产生沿至少一个方向的力，并且所述第二电机组件与所述附加支架相连。所述第一电机组件包括平面电机。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 平面 电机 驱动 支架 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：照射系统，被配置用于调节辐射束；构图支架，被构建用于支撑构图装置，所述构图装置能够沿其横截面给予辐射束图案，以形成已构图的辐射束；衬底支架，被构建用于支撑衬底；投影系统，被配置用于把已构图的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；附加支架；柔性线路组件，被配置用于对电流、信号和流体中至少一项进行传送，所述线路组件具有在底座与所述附加支架之间延伸的第一部分，并且具有在所述附加支架与所述构图支架之间、或者所述附加支架与所述衬底支架之间延伸的第二部分；第一电机组件，被配置用于产生沿至少一个方向的力，所述第一电机组件与所述构图支架和所述衬底支架之一相连；以及第二电机组件，被配置用于产生沿至少一个方向的力，所述第二电机组件与所述附加支架相连，其中，所述第一电机组件包括平面电机。
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