[发明专利]吸附工作台以及基板处理装置

摘要

一种吸附工作台及基板处理装置，在抑制成本增加和涂布不良的同时，改善大气在基板背面的循环。在基板处理装置的吸附工作台(3)的上表面(30)上形成呈格子状的开放槽(34)。开放槽(34)在吸附工作台(3)保持着基板(90)的状态下也开放于大气。在由开放槽(34)隔开的保持部(35)的保持面(36)上设置有吸附孔(37)和吸附槽(38)，并使吸附孔(37)和吸附槽(38)连通。吸附槽(38)在吸附工作台(3)保持着基板(90)的状态下不开放于大气。进而，使吸附孔(37)和排气机构连通。在吸附工作台(3)保持基板(90)时，从排气机构吸引空气，利用吸附孔(37)和吸附槽(38)吸附基板(90)的背面。

主权项

1.一种吸附工作台，对基板进行保持，其特征在于，该吸附工作台包括：多个保持部，其通过开放槽而被各自隔开，并与基板的背面相抵接；排气装置，其从在所述多个保持部上形成的吸附孔进行排气，在所述保持部上形成有与所述吸附孔相连通的吸附槽。