[发明专利]对干扰辐射具有屏蔽作用的支持体的制备方法及屏蔽材料无效
| 申请号： | 200710138684.1 | 申请日： | 1999-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN101119629A | 公开（公告）日： | 2008-02-06 |
| 发明（设计）人： | P·D·伯格舍夫;J·J·马奇尔瑟;S·G·J·布兰肯波尔格 | 申请（专利权）人： | 斯托克制筛有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘春元 |
| 地址： | 荷兰博克斯梅*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种对干扰辐射，如电磁辐射具有屏蔽作用的支持体的制备方法，根据本发明，该方法包括将一种金属化的塑料基片放进注模中，并将一种塑料放进所述注模中进行注塑以形成支持体，其特征在于：该金属化的塑料基片包括一个锡层；且所述将金属化塑料基片放进注模中的步骤包括一种三维变形的步骤；该金属化塑料基片受到深拉，且所说的深拉处理是在100℃的温度上进行的。 | ||
| 搜索关键词： | 干扰 辐射 具有 屏蔽 作用 支持 制备 方法 材料 | ||
【主权项】：
1.对干扰辐射具有屏蔽作用的支持体的制备方法，所说的方法包括下述步骤：将一种金属化的塑料基片放进注模中，并将一种塑料放进所述注模中进行注塑以形成支持体，其特征在于：该金属化的塑料基片包括一个锡层；且所述将金属化塑料基片放进注模中的步骤包括一种三维变形的步骤；该金属化塑料基片受到深拉，且所说的深拉处理是在100℃的温度上进行的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于斯托克制筛有限公司，未经斯托克制筛有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710138684.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：固体摄像装置及摄像装置
- 下一篇：用于布设血管内植入物的装置
