[发明专利]磁屏蔽专用铁粉无效
| 申请号： | 200710139654.2 | 申请日： | 2007-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN101157131A | 公开（公告）日： | 2008-04-09 |
| 发明（设计）人： | 王惠民 | 申请（专利权）人： | 王惠民 |
| 主分类号： | B22F9/04 | 分类号： | B22F9/04;B22F1/02 |
| 代理公司： | 山西太原科卫专利事务所 | 代理人： | 温彪飞 |
| 地址： | 045000山西省*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种纳米级别铁粉，具体为一种磁屏蔽专用铁粉。解决了现有技术中存在的纳米级别铁粉无法实现和达到完全的磁屏蔽效果的问题。利用金属纳米粉体零界颗粒切割生产工艺在－10℃～－20℃的情况下，高频切割次数设定在每分钟3500次－5000次的情况下生产纳米铁粉颗粒。再分选出150nm的铁粉颗粒，其中D3＝30.62nmD10＝50.11nmD25＝75.13nmD50＝100nmD75＝130.63nmD97＝175.54nm的颗粒分布较为集中的粉体颗粒材料，而后对分选后的铁粉颗粒进行表面抛光处理，再在粉体颗粒的表面包覆防氧化层。 | ||
| 搜索关键词： | 屏蔽 专用 铁粉 | ||
【主权项】：
1.一种磁屏蔽专用铁粉，其特征在于：是由以下方法制备，利用金属纳米粉体零界颗粒切割生产工艺在-10℃～-20℃的情况下，高频切割次数设定在每分钟3500次——5000次的情况下生产纳米铁粉颗粒，再分选出150nm的铁粉颗粒，其中D3＝30.62nm D10＝50.11nm D25＝75.13nm D50＝100nm D75＝130.63nmD97＝175.54nm的颗粒分布的粉体颗粒材料，而后对分选后的铁粉颗粒进行表面抛光处理，再用“DQ包覆法”在粉体颗粒的表面包覆一层厚度为1nm～3nm的防氧化层。
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