[发明专利]定影带、定影带基件、定影装置、成像装置及基件的制造方法有效
| 申请号： | 200710139885.3 | 申请日： | 2007-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN101114154A | 公开（公告）日： | 2008-01-30 |
| 发明（设计）人： | 方波见浩;松尾稔;福井重信 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G03G15/20 | 分类号： | G03G15/20 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民;张惠萍 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供了一种用于定影带的基件。该基件包括由耐热树脂制成的薄片，并且该薄片的两边相对的端部接合成为环状。在环带内表面三分之二或更大的区域上具有厚度为3～15μm的导电薄膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 影带 定影 装置 成像 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种定影带用基件，其包含由耐热树脂制成的薄片，并且该薄片的两边相对的端部接合成为环状，其中在环带内表面的三分之二或更大的区域上具有厚度为3～15μm的导电薄膜层。
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