[发明专利]去除光掩模中雾的装置及除去光掩模中雾的方法无效
| 申请号： | 200710140084.9 | 申请日： | 2007-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN101211102A | 公开（公告）日： | 2008-07-02 |
| 发明（设计）人： | 金文植 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/20;G03F7/26;G03F7/40 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 许向华;彭久云 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种去除光掩模中雾(haze)的装置，其包括：具有烘烤模块的密封的腔体，该烘烤模块安置在其中以支撑光掩模；反应气体供应管道，以供应反应气体到腔体中；和排放器件，以排放腔体中的杂质到外部。本发明还涉及一种去除光掩模中雾的方法，包括：加载光掩模到腔体中；提升加载的光掩模的温度高于预定温度；供应反应气体到腔体中，由此反应气体和出现在升温的光掩模上的杂质发应以形成反应产物；和排出反应气体和杂质的反应产物到腔体外部。 | ||
| 搜索关键词： | 去除 光掩模中雾 装置 除去 方法 | ||
【主权项】：
1.一种去除光掩模中雾的装置，包括：腔体；烘烤模块，安置在腔体中以支撑光掩模；反应气体供应管道，以供应反应气体到该腔体中；和排放器件，以排放腔体内的杂质到该腔体的外部。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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