[发明专利]成像设备、聚焦方法、聚焦控制方法有效
| 申请号： | 200710140736.9 | 申请日： | 2005-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN101098409A | 公开（公告）日： | 2008-01-02 |
| 发明（设计）人： | 白石贤二 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | H04N5/232 | 分类号： | H04N5/232 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 邵亚丽;钱大勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种成像设备，其实现了高速自动聚焦操作并减少了功耗，以及防止由于错误测定引起的误聚焦。该成像设备具有自动聚焦功能，其检测聚焦透镜的当前位置。在被检测的聚焦透镜的当前位置附近的有限范围被指定为聚焦范围。聚焦透镜的可移动范围根据被指定的聚焦范围而改变。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 设备 聚焦 方法 控制 | ||
【主权项】：
1.一种成像设备，其中微距模式和普通模式之一是可选择的，微距模式用于将拍摄范围设置为比预定范围短的距离范围，普通模式用于将拍摄范围设置为比预定范围长的距离，该成像设备包括：聚焦控制装置，用于当移动聚焦透镜并在聚焦点停止聚焦透镜时，连续地检测聚焦点，从而执行自动聚焦操作；其特征在于：范围控制装置，用于当以所述微距模式拍摄并且满足预定条件时，通过将聚焦透镜的可移动范围限制为比全部聚焦范围窄的范围，而使得所述聚焦控制装置执行自动聚焦操作，其中比全部聚焦范围窄的范围具有前一聚焦点。
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