[发明专利]薄膜形成用原料以及薄膜的制造方法无效
| 申请号： | 200710141711.0 | 申请日： | 2007-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN101130860A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 山田直树;芳仲笃也;田中伸一 | 申请（专利权）人： | 株式会社艾迪科 |
| 主分类号： | C23C16/30 | 分类号： | C23C16/30;C23C16/448 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种适合制造含有锌的薄膜的原料以及通过使用该原料的化学气相沉积法的薄膜的制造方法。由相对于1000ml不具有羟基的有机溶剂溶解有0.1～1摩尔作为必须成分的双(戊烷－2，4－二酮基)锌无水合物的溶液形成薄膜形成用原料，以及向基体上导入含有将该薄膜形成用原料气化而得到的含有双(戊烷－2，4－二酮基)锌无水合物的蒸汽，并使其分解和/或发生化学反应而在基体上形成含锌原子的薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 形成 原料 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜形成用原料，其由相对于1000ml不具有羟基的有机溶剂溶解有0.1～1摩尔作为必须成分的双(戊烷-2，4-二酮基)锌无水合物的溶液形成。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
