[发明专利]纳米结构图案的制造方法无效
| 申请号： | 200710142318.3 | 申请日： | 2007-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN101174085A | 公开（公告）日： | 2008-05-07 |
| 发明（设计）人： | R·贾甘纳坦;Y·Q·饶;X·－D·米 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯丹麦金融有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沙永生 |
| 地址： | 丹麦哥*** | 国省代码： | 丹麦;DK |
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| 摘要： | 本发明涉及在基片上形成纳米结构图案的方法。所述方法包括：提供基片；用功能材料涂覆所述基片，以形成功能材料层；将至少一种A聚合物链和B聚合物链的嵌段共聚物涂覆在所述功能材料层上，以形成层；干燥所述嵌段共聚物，以形成有序的纳米域；除去已干燥的嵌段共聚物的A聚合物链，以形成空隙；然后从A聚合物链已经被除去的地方除去所述功能材料。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 结构 图案 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在基片上形成纳米结构图案的方法，所述方法包括：提供基片；用功能材料涂覆所述基片，以形成功能材料层；用至少有A聚合物链和B聚合物链的嵌段共聚物涂覆所述功能材料层；干燥所述嵌段共聚物，以形成有序的纳米域；除去已干燥的嵌段共聚物的A聚合物链，以形成空隙；以及从A聚合物链已被除去之处除去所述功能材料。
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