[发明专利]适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 200710142634.0 | 申请日： | 2007-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN101130510A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 重松淳二;吉田勋;原田由香子;末次益实 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | C07C321/12 | 分类号： | C07C321/12;C07C323/10;C07C309/17;G03F7/039 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种式(I)表示的盐，其中，X表示含有至少一个二价脂环族烃基的C3－C30二价基团，并且在所述C3－C30二价基团中的至少一个－CH2－可以被－O－或－CO－取代；Y表示可以被选自C1－C6烷氧基、C1－C4全氟烷基、C1－C6羟烷基、羟基和氰基中的至少一个基团取代的C3－C30环烃基，并且在所述C3－C30环烃基中的至少一个－CH2－可以被－O－或－CO－取代；Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1－C6全氟烷基，并且A+表示有机抗衡离子。 | ||
| 搜索关键词： | 适合于 生成 以及 含有 化学 大型 正性抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种式(I)表示的盐：![]()
其中，X表示含有至少一个二价脂环族烃基的C3-C30二价基团，并且在所述C3-C30二价基团中的至少一个-CH2-可以被-O-或-CO-取代，Y表示可以被选自C1-C6烷氧基、C1-C4全氟烷基、C1-C6羟烷基、羟基和氰基中的至少一个基团取代的C3-C30环烃基，并且在所述C3-C30环烃基中的至少一个-CH2-可以被-O-或-CO-取代，Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，并且A+表示有机抗衡离子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社，未经住友化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710142634.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
