[发明专利]使用等离子体处理基材的设备

摘要

本发明涉及一种使用等离子体处理基材的设备。为改进等离子体的特性，设置用于提供磁场的磁体单元。在壳体侧部的上方区域设置第一磁体单元，在下方区域设置第二磁体单元。每个磁体单元包括配置成当从上侧观察时呈正多边形形状的多个电磁体。下面的磁体单元配置成绕其轴线从与上面的磁体单元对齐的位置以预定角度旋转。根据上述结构，壳体内部的等离子体均匀性得到改进，特别是可以防止相邻电磁体之间区域中的等离子体均匀性下降。

主权项

1.一种等离子体处理设备，其包括：壳体，其中设置有用于容纳基材的空间；气体供应件，用于将气体供应进所述壳体中；等离子体源，用于从供应进所述壳体中的气体产生等离子体；以及磁场形成件，用于在所述壳体内部产生等离子体的区域中提供磁场，其中所述磁场形成件包括：配置在所述壳体周围的第一磁体单元；以及配置在所述壳体周围并与所述第一磁体单元分层隔开的第二磁体单元。