[发明专利]为使光罩保持洁净的系统无效
申请号: | 200710143553.2 | 申请日: | 2007-08-09 |
公开(公告)号: | CN101364040A | 公开(公告)日: | 2009-02-11 |
发明(设计)人: | 廖莉雯 | 申请(专利权)人: | 廖莉雯 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;B08B5/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是关于一种为使光罩保持洁净的系统,特别系指一种可长时间、且效果佳的光罩洁净度保持系统,其包含有至少一装置、至少一可选择性启闭的移转容器,其中移转容器可用于承载光罩,而装置可用于承载前述移转容器,且前述装置具有至少一充气单元与至少一排气单元,而前述移转容器具有对应前述装置充、排气单元的进气单元与出气单元,通过本发明系统的开发,能确保移转容器内环境的洁净,减少光罩表面微粒附着与雾化现象,同时可进一步加速移转容器硫化物和氨气的释出,以有效控制移转容器内的环境,而能延缓光罩被雾化的时间,以提升光罩储存时的洁净度。 | ||
搜索关键词: | 使光罩 保持 洁净 系统 | ||
【主权项】:
1.一种为使光罩保持洁净的系统,其特征在于其包含:至少一移转容器,其具有一可选择性启闭的容置空间,该容置空间可供设置一光罩,且移转容器上设有至少一连通容置空间与外部的进气单元,移转容器上另设有至少一连通容置空间与外部的出气单元,其中进气单元与出气单元具有可防止移转容器闭合时容置空间内气体溢出的选择性气密功能;至少一装置,其具有至少一可承载前述移转容器的容置结构,容置结构具有至少一对应移转容器进气单元的充气单元,且容置结构并具有至少一对应移转容器出气单元的排气单元;使得移转容器与光罩相邻容置空间环境内的气体形成一种循环流动,让干净气体可不断的注入该与光罩相邻的容置空间、并且不断的排出,令该与光罩相邻的容置空间形成正压,可防止外部有害物质进入前述的容置空间内,同时带走前述容置空间内的有害物质,进一步得控制该容置空间的环境条件。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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