[发明专利]抛光用组合物以及抛光方法有效
| 申请号： | 200710143759.5 | 申请日： | 2007-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN101117548A | 公开（公告）日： | 2008-02-06 |
| 发明（设计）人： | 河村笃纪;服部雅幸 | 申请（专利权）人： | 福吉米股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/06 | 分类号： | C09G1/06;C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 孙秀武;李平英 |
| 地址： | 日本岐阜*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供在半导体布线工艺中，非常适合在对含有铜的导体层进行抛光的用途中使用的抛光用组合物。本发明的抛光用组合物的特征在于：含有化学式R1－Y1或R1－X1－Y1所示的至少一种阴离子表面活性剂，其中R1表示烷基、烷基苯基或烯基，X1表示聚氧乙烯基、聚氧丙烯基或聚(氧乙烯·氧丙烯)基，Y1表示阴离子性官能团，和化学式R2－X2所示、且HLB值为10－16的至少一种非离子表面活性剂，其中R2表示烷基，X2表示聚氧乙烯基、聚氧丙烯基或聚(氧乙烯·氧丙烯)基，并且该抛光用组合物的pH为2－9。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 组合 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光用组合物，其特征在于：含有化学式R1-Y1或R1-X1-Y1所示的至少一种阴离子表面活性剂，其中R1表示烷基、烷基苯基或烯基，X1表示聚氧乙烯基、聚氧丙烯基或聚(氧乙烯·氧丙烯)基，Y1表示阴离子性官能团，和化学式R2-X2所示、且HLB值为10-16的至少一种非离子表面活性剂，其中R2表示烷基，X2表示聚氧乙烯基、聚氧丙烯基或聚(氧乙烯·氧丙烯)基，并且该抛光用组合物的pH为2-9。
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