[发明专利]半导体元件有效
申请号: | 200710146678.0 | 申请日: | 2007-08-24 |
公开(公告)号: | CN101132045A | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
发明(设计)人: | 楚树成;菅博文 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种半导体元件,其具备:第1导电型的硅基板(2a),具有第1面(S1a)和第2面(S2a);第2导电型的硅层(4a),设置在硅基板(2a)的第1面(S1a)上,并具有位于和硅基板(2a)相接合的面的相对侧的第3面(S3a);第1电极(12a),设置在第2面(S2a)上;第2电极(14a),设置在第3面(S3a)上;氩添加区域(6a),形成在由硅基板(2a)以及硅层(4a)构成的半导体区域中;其中,氩添加区域(6a)包括氩浓度显示为1×1018cm-3以上、2×1020cm-3以下的区域。 | ||
搜索关键词: | 半导体 元件 | ||
【主权项】:
1.一种半导体元件,其特征在于,具备:第1导电型的硅基板,具有第1面和位于该第1面的相对侧的第2面;第2导电型的硅层,设置在所述硅基板的所述第1面上,并且具有位于和该硅基板相接合的面的相对侧的第3面;第1电极,设置在所述第2面上;第2电极,设置在所述第3面上;氩添加区域,形成在由所述硅基板以及所述硅层构成的半导体区域中,其中,所述氩添加区域包括氩浓度显示为1×1018cm-3以上、2×1020cm-3以下的区域。
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