[发明专利]抛光用组合物和抛光方法有效
| 申请号： | 200710146855.5 | 申请日： | 2007-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN101130668A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 上村泰英 | 申请（专利权）人： | 福吉米股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/16 | 分类号： | C09G1/16;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 孙秀武;李平英 |
| 地址： | 日本岐阜*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供使用抛光用组合物进行抛光后，抛光对象表面的起因于抛光加工的LPD(光点缺陷)的数量可以降低的抛光用组合物，以及使用该抛光用组合物的抛光方法。本发明的抛光用组合物含有选自聚乙烯基吡咯烷酮和聚N－乙烯基甲酰胺的至少一种水溶性高分子和碱。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.抛光用组合物，其特征在于：该抛光用组合物含有选自聚乙烯基吡咯烷酮和聚N-乙烯基甲酰胺的至少一种水溶性高分子和碱。
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