[发明专利]具有横向MOS晶体管和齐纳二极管的半导体器件有效

专利信息
申请号: 200710147106.4 申请日: 2007-08-30
公开(公告)号: CN101136406A 公开(公告)日: 2008-03-05
发明(设计)人: 高桥茂树;中野敬志;赤木望;樋口安史;藤井哲夫;服部佳晋;桑原诚;冈田京子 申请(专利权)人: 株式会社电装
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L23/522
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种半导体器件,包括:半导体衬底(1-3);设置在衬底(1-3)中的横向MOS晶体管(LTa-LTd);设置在衬底(1-3)中的齐纳二极管(ZDa-ZDd);以及设置在衬底(1-3)中的电容器(Ca-Ce)。所述晶体管(LTa-LTd)包括漏极(D)和栅极,并且二极管(ZDa-ZDd)和电容器(Ca-Ce)串联耦合在漏极(D)和栅极之间。该器件具有最小化的尺寸和高开关速度。此外,改善了开关损耗和浪涌电压。
搜索关键词: 具有 横向 mos 晶体管 齐纳二极管 半导体器件
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:半导体衬底(1-3);设置在所述衬底(1-3)中的横向MOS晶体管(LTa-LTd);设置在所述衬底(1-3)中的齐纳二极管(ZDa-ZDd);以及设置在所述衬底(1-3)中的电容器(Ca-Ce),其中所述晶体管(LTa-LTd)包括漏极(D)和栅极(G),以及所述二极管(ZDa-ZDd)和所述电容器(Ca-Ce)串联耦合在所述漏极(D)和所述栅极(G)之间。
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