[发明专利]制造宽压模的方法无效
| 申请号： | 200710147982.7 | 申请日： | 2007-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN101135841A | 公开（公告）日： | 2008-03-05 |
| 发明（设计）人： | 罗承铉;李春根;李上文;赵在春 | 申请（专利权）人： | 三星电机株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 章社杲;吴贵明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制造宽压模的方法。该方法包括：将其中打孔有第一图案的第一掩模层叠在正性光刻胶层上；将第一掩模的上表面曝光；显影正性光刻胶层以形成凹版图案；以及进行模制，从而形成与凹版图案相对应的凸版图案，使用该方法通过简单的工艺可制造具有多个层次的宽压模。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 宽压模 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造宽压模的方法，所述方法包括：将第一掩模层叠在正性光刻胶层上，所述第一掩模中打孔有第一图案；将所述第一掩模的上表面曝光；显影所述正性光刻胶层以形成凹版图案；以及进行模制，从而形成与所述凹版图案相对应的凸版图案。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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