[发明专利]光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 200710148346.6 | 申请日： | 2007-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN101140426A | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 约翰尼斯·卡萨瑞纳斯·休伯特斯·穆尔肯斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 描述了一种在浸没式液体光刻设备中的再循环浸没流体的系统。公开了一种包括多条并行路径的循环路径，其中每一条路径具有其自身的并行液体处理单元，所述并行液体处理单元被优化用于处理通过其引导的流体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：投影系统，其被构造用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分；液体供给系统，其被构造用于将液体提供到投影系统和衬底之间的空间中；以及循环系统，其被构造用于收集离开液体供给系统的液体，并再次将液体提供给液体供给系统，所述循环系统包括两个被构造用于处理液体的并行液体处理单元，所述并行液体处理单元被构造用于处理不同的液体，使得具有使来自液体供给系统的液体通过所述循环系统回到液体供给系统的两条循环路径。
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