[发明专利]激光照射装置及照射方法、装置的制造方法无效

专利信息
申请号: 200710148545.7 申请日: 2007-08-29
公开(公告)号: CN101185988A 公开(公告)日: 2008-05-28
发明(设计)人: 尾本启介;中岛稔;稻垣正利 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: B23K26/06 分类号: B23K26/06;B23K26/04;H01L21/20;H01L21/268
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 马高平;彭久云
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种激光照射装置、激光照射方法、薄膜半导体装置的制造方法以及显示装置的制造方法,防止在利用截取部件截取线状激光时、被截取部件表面反射的激光对半导体膜的结晶化工序造成不良影响。本发明的激光装置包括:工作台(3),其对形成有半导体膜(5)的基板(4)进行支承;光学系统(1),其将向基板(4)照射的激光的截面形成线状;一对截取部件(2),其将由光学系统(1)形成线状的激光LB在线长度方向X上截取规定的长度,在各个截取部件(2)的用于截取的遮光部上设有获取并吸收激光LB的多个翼片(7)。
搜索关键词: 激光 照射 装置 方法 制造
【主权项】:
1.一种激光照射装置,其特征在于,包括:光学系统,其将向被照射体照射的激光的截面形成线状;截取部件,其将由所述光学系统形成线状的激光在线长度方向上截取规定的长度,并且在用于所述截取的遮光部上设有获取并吸收所述激光的多个翼片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼株式会社,未经索尼株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710148545.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top