[发明专利]激光照射装置及照射方法、装置的制造方法无效
申请号: | 200710148545.7 | 申请日: | 2007-08-29 |
公开(公告)号: | CN101185988A | 公开(公告)日: | 2008-05-28 |
发明(设计)人: | 尾本启介;中岛稔;稻垣正利 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | B23K26/06 | 分类号: | B23K26/06;B23K26/04;H01L21/20;H01L21/268 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 马高平;彭久云 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种激光照射装置、激光照射方法、薄膜半导体装置的制造方法以及显示装置的制造方法,防止在利用截取部件截取线状激光时、被截取部件表面反射的激光对半导体膜的结晶化工序造成不良影响。本发明的激光装置包括:工作台(3),其对形成有半导体膜(5)的基板(4)进行支承;光学系统(1),其将向基板(4)照射的激光的截面形成线状;一对截取部件(2),其将由光学系统(1)形成线状的激光LB在线长度方向X上截取规定的长度,在各个截取部件(2)的用于截取的遮光部上设有获取并吸收激光LB的多个翼片(7)。 | ||
搜索关键词: | 激光 照射 装置 方法 制造 | ||
【主权项】:
1.一种激光照射装置,其特征在于,包括:光学系统,其将向被照射体照射的激光的截面形成线状;截取部件,其将由所述光学系统形成线状的激光在线长度方向上截取规定的长度,并且在用于所述截取的遮光部上设有获取并吸收所述激光的多个翼片。
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