[发明专利]气体供给装置和方法、薄膜形成装置和方法及洗涤方法有效
| 申请号： | 200710152462.5 | 申请日： | 2007-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN101220505A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | 中尾贤;加藤寿;冈部庸之;冈田充弘;本间学;羽石朋来 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;H01L21/205 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种薄膜形成装置(1)。该薄膜形成装置(1)具有反应室(2)和与反应室(2)连接的排气管(5)，为了向反应室(2)或排气管(5)供给包含氟和氢的洗涤气体，使氟导入管(17c)和氢导入管(17d)连接在反应室(2)上。其中，氢导入管(17d)具有内部流路(174)和以覆盖内部流路(174)的方式形成的外部流路(175)。从内部流路(174)供给氢，从外部流路(175)供给氮。因此，将从内部流路(174)供给的氢在其周围被氮覆盖的状态下，从氢导入管(17d)供给。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 供给 装置 方法 薄膜 形成 洗涤 | ||
【主权项】：
1.一种气体供给装置，该装置为了除去附着在具有反应室和与反应室连接的排气管的薄膜形成装置内部的附着物，向薄膜形成装置的反应室或排气管内供给包含氟和氢的洗涤气体，其特征在于，具有：向所述反应室内或所述排气管内供给氟的氟供给单元；和向所述反应室内或所述排气管内供给氢的氢供给单元，所述氢供给单元具有内部流路和以覆盖该内部流路的方式形成的外部流路，从所述内部流路供给氢，同时从所述外部流路供给与通过所述氟供给单元供给的氟不反应的保护气体，将氢在其周围被保护气体覆盖的状态下供向所述反应室内或所述排气管内。
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