[发明专利]包括局部控制栅极的非易失性存储设备及相关方法和设备无效
申请号: | 200710153194.9 | 申请日: | 2007-09-29 |
公开(公告)号: | CN101174636A | 公开(公告)日: | 2008-05-07 |
发明(设计)人: | 李龙圭;金荣浩;千明照;韩晶昱;田喜锡 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L23/522;G11C16/02;G11C16/10;G11C16/08 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 邵亚丽 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种非易失性集成电路存储设备可以包括具有相同传导类型的第一电隔离阱和第二电隔离阱的半导体衬底。可以在第一阱上提供第一多个非易失性存储单元晶体管,并且可以在第二阱上提供第二多个非易失性存储单元晶体管。局部控制栅极线可以与第一多个非易失性存储单元晶体管和第二多个非易失性存储单元晶体管电耦接,并且组选择晶体管可以电耦接在局部控制栅极线和全局控制栅极线之间。更具体地说,组选择晶体管可被配置为响应于施加到该组选择晶体管栅极的组选择栅极信号而将局部控制栅极线和全局控制栅极线耦接和断开。还讨论了相关的方法和系统。 | ||
搜索关键词: | 包括 局部 控制 栅极 非易失性 存储 设备 相关 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电子系统,包括:半导体衬底,包括具有相同传导类型的第一电隔离阱和第二电隔离阱;第一阱上的第一多个非易失性存储单元晶体管;第二阱上的第二多个非易失性存储单元晶体管;局部控制栅极线,与第一多个非易失性存储单元晶体管和第二多个非易失性存储单元晶体管电耦接;以及组选择晶体管,电耦接在局部控制栅极线和全局控制栅极线之间,其中,该组选择晶体管被配置为响应于施加到该组选择晶体管的栅极的组选择栅极信号而将局部控制栅极线和全局控制栅极线耦接和断开。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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