[发明专利]透明导电膜以及其制造方法有效
| 申请号： | 200710153255.1 | 申请日： | 2007-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN101154483A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | 樋之津崇;田上幸治 | 申请（专利权）人： | 同和电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;B05D1/00;B05D3/12;B05D3/06;H01B5/14 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 孙秀武;李平英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在基板上涂布含有透明导电性微粒的流动性材料形成涂膜后，对该涂膜施加压力，然后照射电磁波，对透明导电性微粒进行烧结。例如对涂膜施加压力，使涂膜密度达到3.0g/cm3以上。例如通过辊压机对涂膜面施加压力。另外，将辊压机的线压力设定在200kg/cm以上。照射的电磁波例如是1GHz～1THz的微波。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.透明导电膜的制造方法，其特征是在基板上涂布含有透明导电性微粒的流动性材料而形成涂膜，对前述涂膜施加压力，然后照射电磁波，使前述透明导电性微粒烧结。
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