[发明专利]有机层图案及其形成方法以及包括该图案的有机存储装置无效
申请号: | 200710154319.X | 申请日: | 2007-09-17 |
公开(公告)号: | CN101201541A | 公开(公告)日: | 2008-06-18 |
发明(设计)人: | 李相均;周原提;李光熙;崔太林;郑明燮 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F1/00;H01L51/40 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 吴培善 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明披露了一种形成有机层图案的方法、由该方法制备的有机层图案和包括该图案的有机存储装置,所述方法的特征在于通过将包括聚酰亚胺类聚合物、光引发剂和交联剂的涂敷液涂敷在基底上并干燥该基底而形成薄层,并对所述薄层进行曝光和显影,所述聚酰亚胺类聚合物在其聚酰亚胺主链中具有包括杂原子的杂芳族侧基。根据本发明,可在不进行任何昂贵工艺(例如光刻胶)的情况下,形成高分辨显微图案,使得制备过程简化以及成本降低。 | ||
搜索关键词: | 有机 图案 及其 形成 方法 以及 包括 存储 装置 | ||
【主权项】:
1.一种形成有机层图案的方法,其包括:通过将包括聚酰亚胺类聚合物、光引发剂和交联剂的涂敷液涂敷在基底上并干燥该基底而形成薄层,所述聚酰亚胺类聚合物在其聚酰亚胺主链中具有包括杂原子的杂芳族侧基;和经其上形成有所需图案的光掩模对所形成的薄层进行曝光,并通过对被曝光薄层进行显影除去所述薄层的未曝光区域,由此在所述薄层上形成负性图案。
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