[发明专利]基板的显影处理方法以及基板的显影处理装置

摘要

本发明提供一种消除在基板上的显影液被漂洗液置换时，在基板面内的不同位置产生显影液的浓度差的问题，从而能够防止在抗蚀膜面上发生斑痕状缺陷，而且能够减少显影液的使用量的方法。通过旋转卡盘将基板保持为水平姿势，并通过旋转马达使基板绕着铅直轴周围旋转，同时，从喷嘴吐出显影液向基板表面的抗蚀膜上供给显影液而进行了显影处理之后，继续使基板旋转，使得在抗蚀膜上的显影液被离心力飞散而被除去，从而在基板表面上观察不到干涉条纹的时刻，从喷嘴吐出纯水向抗蚀膜上供给漂洗液而进行漂洗处理。

主权项

1.一种基板的显影处理方法，包括：显影工序，该显影工序向形成于基板表面的曝光后的抗蚀膜上供给显影液，由此对抗蚀膜进行显影处理；漂洗工序，该漂洗工序在使基板以水平姿势绕着铅直轴周围旋转的同时，向形成于基板表面上的显影处理后的抗蚀膜上供给漂洗液而进行漂洗处理；干燥工序，该干燥工序使基板以水平姿势绕着铅直轴周围旋转，从而对形成于基板表面上的漂洗处理后的抗蚀膜进行干燥，其特征在于，在上述显影工序之后，使基板以水平姿势绕着铅直轴周围旋转，使得基板表面上的显影液被离心力飞散而被除去，并且在基板表面上观察不到干涉条纹的时刻，向上述漂洗工序转移。