[发明专利]光掩模坯料和光掩模及它们的制造方法、光掩模中间体及图案的复制方法

摘要

本发明的课题，在于提供能够在搬运及往光刻机上安装等的处理中，防止遮光膜周边部分的剥离、抑制起因于遮光膜的剥离而产生的微粒的光掩模坯料。在本发明中，通过下列工序制造光掩模坯料：成膜工序，该成膜工序将沿着透光性基板(1)的主表面(1a)的周边的外周部分，作为非形成区域(2a)，在该主表面(1a)上，形成遮光膜(2)；涂敷工序，该涂敷工序向包含形成遮光膜(2)的区域的涂敷抗蚀剂膜(3)，利用抗蚀剂膜(3)覆盖所述遮光膜(2)的周边；抗蚀剂膜周边除去工序，该抗蚀剂膜周边除去工序除去涂敷的抗蚀剂膜(3)的周边部分(3a)，从而使所述遮光膜(2)的周边部分(2b)露出。

主权项

1.一种光掩模坯料，在透光性基板的主表面上形成遮光膜并在该遮光膜上形成抗蚀剂膜的光掩模坯料，其特征在于：形成所述遮光膜的区域大于形成所述抗蚀剂膜的区域，所述遮光膜的周边部分，从所述抗蚀剂膜的周边向外侧露出。