[发明专利]一种不损害殷钢低膨胀特性的薄层镀镍工艺方法无效
申请号: | 200710157310.4 | 申请日: | 2007-09-28 |
公开(公告)号: | CN101225535A | 公开(公告)日: | 2008-07-23 |
发明(设计)人: | 康仁科;乔玉鹏;袁和平;郭东明;金洙吉;贺荣明 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学;上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | C25D3/12 | 分类号: | C25D3/12;C25D5/18;C25D5/36 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 | 代理人: | 侯明远 |
地址: | 116024辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明为一种薄层电镀镍工艺,采用瓦特型电镀镍方法,通过工艺参数的优化配置在一定的时间内获得很薄的镍镀层。首先对工件表面作磨削光整处理,使其表面粗糙度达到Ra 0.5μm;然后采用除油、酸洗和超声波水洗,以保证彻底去除表面的杂物;之后采用瓦特型镀镍液脉冲镀镍的工艺方案,通过控制脉冲电镀镍的工艺参数,在确定的时间内实现薄层镍完整覆盖工件表面。该方法不需专用设备,可在普通电镀设备上进行,工艺简单,成本低,加工效率较高,节省原料。工件的双金属变形效应得到有效的抑制,又可达到提高表面耐蚀性的目的,从而提高殷钢结构件的结构精度,满足超精密设备的使用要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 损害 殷钢低 膨胀 特性 薄层 工艺 方法 | ||
【主权项】:
1.一种不损害殷钢低膨胀特性的薄层镀镍工艺方法,采用镀暗镍工艺方法,通过调整工艺参数,获取5μm厚度的镀层,其特征在于:(1)对工件表面作磨削光整处理,使其表面粗糙度达到Ra0.5μm;(2)采用除油、酸洗和超声波水洗,去除表面的杂物;(3)采用瓦特型镀镍液脉冲镀镍的工艺方案,通过控制脉冲电镀镍的工艺参数,在确定的时间内实现薄层镍完整覆盖工件表面;电镀镍工艺参数为:NiSO4·6H2O 220~300g/LNiCl2·6H2O 40~60g/LH3BO4 30~40g/LpH值 3.7~4.6温度 40±1℃磁力搅拌 240±10r/min阴极有无移动 有阴阳极间距 100mm电流密度Dk 0.5A/dm2 脉冲频率f 1200Hz占空比γ 1/5电镀时间 150~180min
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