[发明专利]一种不损害殷钢低膨胀特性的薄层镀镍工艺方法无效
| 申请号： | 200710157310.4 | 申请日： | 2007-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN101225535A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | 康仁科;乔玉鹏;袁和平;郭东明;金洙吉;贺荣明 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学;上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C25D3/12 | 分类号： | C25D3/12;C25D5/18;C25D5/36 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 | 代理人： | 侯明远 |
| 地址： | 116024辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明为一种薄层电镀镍工艺，采用瓦特型电镀镍方法，通过工艺参数的优化配置在一定的时间内获得很薄的镍镀层。首先对工件表面作磨削光整处理，使其表面粗糙度达到Ra 0.5μm；然后采用除油、酸洗和超声波水洗，以保证彻底去除表面的杂物；之后采用瓦特型镀镍液脉冲镀镍的工艺方案，通过控制脉冲电镀镍的工艺参数，在确定的时间内实现薄层镍完整覆盖工件表面。该方法不需专用设备，可在普通电镀设备上进行，工艺简单，成本低，加工效率较高，节省原料。工件的双金属变形效应得到有效的抑制，又可达到提高表面耐蚀性的目的，从而提高殷钢结构件的结构精度，满足超精密设备的使用要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 损害 殷钢低 膨胀 特性 薄层 工艺 方法 | ||
【主权项】：
1.一种不损害殷钢低膨胀特性的薄层镀镍工艺方法，采用镀暗镍工艺方法，通过调整工艺参数，获取5μm厚度的镀层，其特征在于：(1)对工件表面作磨削光整处理，使其表面粗糙度达到Ra0.5μm；(2)采用除油、酸洗和超声波水洗，去除表面的杂物；(3)采用瓦特型镀镍液脉冲镀镍的工艺方案，通过控制脉冲电镀镍的工艺参数，在确定的时间内实现薄层镍完整覆盖工件表面；电镀镍工艺参数为：NiSO4·6H2O 220～300g/LNiCl2·6H2O 40～60g/LH3BO4 30～40g/LpH值 3.7～4.6温度 40±1℃磁力搅拌 240±10r/min阴极有无移动 有阴阳极间距 100mm电流密度Dk 0.5A/dm2 脉冲频率f 1200Hz占空比γ 1/5电镀时间 150～180min
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